《數字集成電路設計基礎》博士入學考試大綱
1、 引言
集成電路設計基礎。
2、制造工藝
MOS晶體管制造工藝，了解芯片封裝工藝。
3、器件
半導體器件，MOS管工作特點，器件模型。
4、CMOS反相器
反相器的電氣特性，反相器性能指標的定量分析，反相器設計的優化，工藝縮小對于設計的影響。
5、設計組合電路
CMOS邏輯門系列――靜態和動態、傳輸晶體管、無比和有比邏輯，優化邏輯門的方法，新型低功耗高性能電路的設計技術。要求掌握組合CMOS數字電路的特點和性能，包括CMOS數字電路的面積、速度和功耗，掌握一些可以明顯提高電路性能的邏輯類型。
6、設計時序電路
寄存器、鎖存器、觸發器、振蕩器、脈沖發生器和施密特觸發器的實現，靜態與動態電路實現的比較，時鐘策略的選擇。要求掌握時序模塊的CMOS實現方法，學會選擇合適的時序電路和時鐘方法，以優化電路的性能、功耗和設計復雜性。
7、晶體管和版圖
晶體管的結構、特性，版圖的設計方法，版圖設計規則以及設計規則的制定原則。要求掌握晶體管的結構及其特性，熟悉版圖設計的基本概念和相關技術，了解基本的版圖規則。
8、線
互聯線的電路模型，互聯參數的量化，導線的SPICE模型，工藝尺寸的減小及它對互聯的影響。要求掌握現代半導體工藝中互聯線的作用和特征，了解導線相關的寄生參數（電容、電阻、電感）。
9、ASIC介紹
ASIC類型，設計流程，ASIC經濟學，ASIC單元庫。
10、基于包的ASIC設計
門陣列與標準單元設計方法，庫單元設計，庫結構，布局布線，I/O單元，PAD，封裝技術。
11、數據通路
數據通路，加法器，乘法器，移位器等基本運算功能塊
12、存儲器
存儲器內核，存儲器外圍電路等
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